水处理设备系统生产目标:纯水、高纯水
应用范围:
半导体材料、器件,激光材料、器件,线路板,微电子工业,精细化工,检验分析
设备系统生产规模:0.1-200m3/h
原水水质:一般应符合工业自来水或[生活饮用水卫生标准] GB5749-85
产水水质根据下述分级应用:[电子级水的技术标准] GB11446-1-89
制药、医疗
水处理设备系统生产目标: 纯净水、无菌纯水、无菌无热原纯水
应用范围:无菌水、药剂注射用水、生化制药、血液透析
设备系统生产规模:0.1-200m3/h
原水水质:一般应符合工业自来水或[生活饮用水卫生标准] GB5749-85
产水水质根据下述分级应用:[中华人民共和国药典] -2000
公司提供的设备系统特点:
原水首先经过预处理,然后进入主处理系统。一般包括 反渗透 脱盐工艺,对需进一步
纯化的制药、医疗用水,反渗透工艺产出的水还分别用复床、混床或 EDI去离子 设备
作进一步深度处理,其产出水还用紫外线杀菌,最后送到用水点。设备系统中与水介质
接触的材料不能有有害溶出物,严格各工艺过程的杀菌处理;要求脱热原的医疗用水,
要增加水的多效蒸馏设备等。
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